光谷文化创意产业园（芯中心二期项目）整体占地约405亩，总建筑面积约51万方（包含2023年3月20日已移交给武汉联投物业有限公司的D区），其中地上建面约41万方，地下建面约10万方。整个项目分4期进行开发建设。位于武汉市东湖高新区光电子信息产业园光谷大道和流芳路交汇处，地块东至流芳大道，南至藏龙大道，西至湖北经济学院，北至光谷大道。总占地面积405亩，规划建筑面积约51万M²。紧邻光谷中华科技园、光谷东湖综合保税区、江夏开发区藏龙岛办事处三大园区，是光谷现有最稀缺的可分割销售独立产权的产业基地。
项目总体定位为文化创意产业基地，集聚特有的文化创意产业资源优势，形成文化创意产业的现代化生态企业总部集群。项目包括文化创意产业中的各种关联产业，重点发展激光/人工智能东湖高新激光/人工智能以及其他文化创意产业，立足武汉，辐射全国，贴合企业发展需要，打造光谷文化创意生态产业集群。项目建成后将集总部独栋办公楼、集中式办公超甲级写字楼、SOHO研发楼、LOFT研发楼、园区配套、会议中心、展示中心、运动中心等多种物业形态的企业总部研发办公产业园。
